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涂膠機設(shè)備是半導(dǎo)體制造工藝中光刻工序的關(guān)鍵設(shè)備之一，主要用于在晶圓表面涂覆光刻膠。這一過程是半導(dǎo)體集成電路制造的核心環(huán)節(jié)，直接影響到后續(xù)曝光、顯影以及圖形轉(zhuǎn)移的質(zhì)量與精度。

在光刻工藝中，涂膠機的作用至關(guān)重要。其工作原理通常涉及機械手或其他搬運機制將晶圓置于設(shè)備中，通過旋轉(zhuǎn)或噴射等方式，均勻地將光刻膠涂布在晶圓的表面。涂膠機的技術(shù)參數(shù)，如涂膠速度、均勻性、膠量控制等，都會影響到光刻工序的效果。